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最高法知产法庭 · 案例分析·· 2026-09-04精选AI 评分60

最高法知产法庭二审明确布图设计首次商用超两年抗辩的审查规则

被诉侵权人提出布图设计首次商用超两年抗辩的处理

AI 导读

最高人民法院知识产权法庭就(2025)最高法知民终452号集成电路布图设计侵权案作出二审判决,明确被诉侵权人主张涉案布图设计不符合法定条件的,法院可在侵权诉讼中适度审查其权利基础,不必等待或要求其先提起撤销程序。

推荐理由

明确登记超两年不再获保护并厘清被诉侵权人抗辩与撤销程序的关系,对同类侵权诉讼的举证与审查路径有直接参照价值。

来源:最高法知产法庭 · 案例分析 · ipc.court.gov.cn